Prof. Dr. Jörg Schilling

Geschäftsführender Direktor und Nachwuchsgruppenleiter
Silicon-to-Light

Telefon: 0345 – 55 28 653
E-Mail: joerg.schilling(at)physik.uni-halle.de
Fax: 0345 – 55 27 411

Jörg Schilling erhielt 1999 sein Physik-Diplom von der Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg. Seine Diplom-Arbeit fertigte er auf dem Gebiet der Röntgenstrahl-Reflektometrie an dünnen Schichten an.

Danach wechselte er an das Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik in Halle, wo er 2002 seine Dissertation zur Untersuchung der optischen Eigen­schaften von 2D- and 3D-photonischen Kristallen aus makroporösem Silizium verteidigte. Von 2002 bis 2005 arbeitete er als Postdoc am California Institute of Technology in der Gruppe um Prof. Scherer in Pasadena, USA. Im Dezember 2005 erhielt er ein For­schungs­stipen­dium der Royal Society University und war seit­dem bis September 2009 am Centre for Nanostructured Media an der Queen's University in Belfast, UK, beschäftigt.

Für seine bisherigen und zukünftigen For­schungs­aktivitäten stehen ihm weitreichende experimen­telle Erfahrungen wie z.B. die Photo­lithographie, das electro­chemische sowie Nass-Ätzen, die thermische- und Elektronenstrahl-Evaporation, das fokussierte Ionenstrahl (FIB)-Fräsen, die Reflexion und Beugung von Röntgenstrahlen, die Photoluminneszenz-Spektroskopie oder die FTIR-Reflexion und Transmission zur Verfügung.

Seit Oktober 2009 ist er Nachwuchsgruppenleiter der Forschungsgruppe “Silicon-to-Light” des ZIK SiLi-nano®. 

Publikationen von Prof. Dr. Jörg Schilling

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