Geschäftsführender Direktor und Nachwuchsgruppenleiter
Silicon to Light
Telefon: 0345 5528-663
E-Mail: joerg.schilling(at)physik.uni-halle.de
Jörg Schilling erhielt 1999 sein Physik-Diplom von der Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg. Seine Diplom-Arbeit fertigte er auf dem Gebiet der Röntgenstrahl-Reflektometrie an dünnen Schichten an.
Danach wechselte er an das Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik in Halle, wo er 2002 seine Dissertation zur Untersuchung der optischen Eigenschaften von 2D- and 3D-photonischen Kristallen aus makroporösem Silizium verteidigte. Von 2002 bis 2005 arbeitete er als Postdoc am California Institute of Technology in der Gruppe um Prof. Scherer in Pasadena, USA. Im Dezember 2005 erhielt er ein Forschungsstipendium der Royal Society University und war seitdem bis September 2009 am Centre for Nanostructured Media an der Queen's University in Belfast, UK, beschäftigt.
Für seine bisherigen und zukünftigen Forschungsaktivitäten stehen ihm weitreichende experimentelle Erfahrungen wie z.B. die Photolithographie, das electrochemische sowie Nass-Ätzen, die thermische- und Elektronenstrahl-Evaporation, das fokussierte Ionenstrahl (FIB)-Fräsen, die Reflexion und Beugung von Röntgenstrahlen, die Photoluminneszenz-Spektroskopie oder die FTIR-Reflexion und Transmission zur Verfügung.
Seit Oktober 2009 ist er Nachwuchsgruppenleiter der Forschungsgruppe “Silicon-to-Light” des ZIK SiLi-nano®.